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Quando se utiliza a deposição química a partir da fase vapor enriquecida por plasma (PE...
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Q700250
Teclas de Atalhos
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Ano:
2012
Banca:
FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência - FUNRIO
Prova:
FUNRIO - CEITEC - Analista Administrativo - Área Engenharia Elétrica - 2012
Quando se utiliza a deposição química a partir da fase vapor enriquecida por plasma (PECVD)?
A
Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas baixas, menores que 350ºC.
B
Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas altas, maiores que 900ºC.
C
Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas baixas, menores que 350ºC.
D
Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas altas, maiores que 900ºC.
E
Quando se necessita da difusão e deposição de dopantes e filmes em qualquer temperatura.
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