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O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter...

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Q700525
Teclas de Atalhos
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Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência - FUNRIO
Prova: FUNRIO - CEITEC - Analista Administrativo - Área Engenharia Elétrica - 2012
O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos com diâmetros maiores que 200 mm
A
é impossível ter substratos com diâmetros maiores que 200 mm.
B
é o de tubo horizontal.
C
é o de placas paralelas.
D
é o de substrato único.
E
é o de tubo vertical.