CEITEC - Analista Administrativo - Área Engenharia Elétrica - 2012
Questão 48
48
Q700255
Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica Ciências dos Materiais
Atalhos
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Ano: 2012
Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência - FUNRIO
Prova: FUNRIO - CEITEC - Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A. - CEITEC - Analista Administrativo - Área Engenharia Elétrica
Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxido de Si, de nitreto de Si e de silício policristalino, usados na tecnologia CMOS?
A
Microscopia eletrônica de transmissão (TEM).
B
Microscopia eletrônica de varredura (SEM).
C
Microscopia de força atômica (AFM).
D
Elipsometria.
E
Perfilometria.