Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica Ciências dos Materiais

Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxido de Si, de nitreto de Si e de silício policristalino, usados na tecnologia CMOS?
  • A. Microscopia eletrônica de transmissão (TEM).
  • B. Microscopia eletrônica de varredura (SEM).
  • C. Microscopia de força atômica (AFM).
  • D. Elipsometria.
  • E. Perfilometria.