Quais das medidas a seguir se prestam a minimizar o cross talk, IR drop, interconnect noise e electromigration,
respectivamente?
A
Blindar de trilhas críticas, se possível com plano de terra; dimensionar corretamente a largura de uma trilha evitando
cantos de 90° e variações bruscas na sua secção transversal; utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos
de alto chaveamento e também utilizar anéis de guarda para coletar portadores minoritários; minimizar o número de
quadrados numa trilha.
B
Utilizar anéis de guarda aterrados; utilizar apenas trilhas de metal 1; aumentar o número de contatos e vias entre
condutores; utilizar condutores de silício policristalino pois ele apresenta maior condutividade.
C
Minimizar o número de quadrados numa trilha; utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos de alto
chaveamento e também utilizar anéis de guarda para coletar portadores minoritários; dimensionar corretamente a largura
de uma trilha evitando cantos de 90° e variações bruscas na sua secção transversal; blindar de trilhas críticas, se possível
com plano de terra.
D
Envolver blocos ruidosos em poços aterrados; empregar condutores de silício pois o mesmo apresenta maior
condutividade; blindar trilhas críticas envolvendo-as em camadas de metal 2; utilizar condutores de silício policristalino
pois o mesmo apresenta maior condutividade.
E
Utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos de alto chaveamento e também utilizar anéis de guarda para
coletar portadores minoritários; minimizar o número de quadrados numa trilha; blindar de trilhas críticas, se possível
com plano de terra; dimensionar corretamente a largura de uma trilha evitando cantos de 90° e variações bruscas na sua
secção transversal.