Considerando as etapas básicas do processo de fabricação CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) cavidade “n”, a etapa ou passo na qual são definidas as regiões ativas do dispositivo CMOS chama-se: Considerando as etapas básicas do processo de fabricação CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) cavidade “n”, a etapa ou passo na qual são definidas as regiões ativas do dispositivo CMOS chama-se:

Considerando as etapas básicas do processo de fabricação...

Q699818

Engenharia de Telecomunicações Eletrônica analógica e digital

Ano: 2012

Banca: FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência - FUNRIO

Prova: FUNRIO - CEITEC - Analista Administrativo - Área Telecomunicações - 2012

Considerando as etapas básicas do processo de fabricação CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) cavidade “n”, a etapa ou passo na qual são definidas as regiões ativas do dispositivo CMOS chama-se:

Formação da porta de silício policristalino.

Metalização.

Difusão n+.

Abertura das janelas de contato.

LOCOS (oxidação local).

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