Os níveis de tensão permitidos são menores em chips fabricados em processos CMOS padrão com rótulo menor, escalonados
com campo constante. Dos fatores abaixo relacionados, qual influencia mais significativamente essa tendência?
A
Maior concentração de dopantes nas regiões de dreno e fonte dos transistores MOSFET.
B
Inclusão de transistores bipolares no chip.
C
Utilização de filmes com baixa permissividade elétrica relativa entre camadas de metal.
D
Aumento no número de camadas de metal para trilhas.
E
Necessidade de níveis de tensão cada vez menores na saída do chip.