Quais as motivações para o emprego da implantação de íons em substituição à difusão em forno térmico? 1- Controle preciso da profundidade de junção através da energia de aceleração do feixe de íons. 2- Controle preciso da concentração de dopantes na junção através da dose de implantação de íons. 3- Permite o uso de máscara de fotoresiste, pois, normalmente, é um processo executado em temperatura ambiente. Está (ão) correta(s) apenas a(s) afirmativa(s): Quais as motivações para o emprego da implantação de íons em substituição à difusão em forno térmico? 1- Controle preciso da profundidade de junção através da energia de aceleração do feixe de íons. 2- Controle preciso da concentração de dopantes na junção através da dose de implantação de íons. 3- Permite o uso de máscara de fotoresiste, pois, normalmente, é um processo executado em temperatura ambiente. Está (ão) correta(s) apenas a(s) afirmativa(s):

Quais as motivações para o emprego da implantação de íons...

Q700245

Quais as motivações para o emprego da implantação de íons em substituição à difusão em forno térmico?

1- Controle preciso da profundidade de junção através da energia de aceleração do feixe de íons.

2- Controle preciso da concentração de dopantes na junção através da dose de implantação de íons.

3- Permite o uso de máscara de fotoresiste, pois, normalmente, é um processo executado em temperatura ambiente.

Está (ão) correta(s) apenas a(s) afirmativa(s):

1, 2 e 3.

1 e 2.

2 e 3.