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Deposita-se a solução que contém o dopante no centro da...

Deposita-se a solução que contém o dopante no centro da lâmina de silício e, rapidamente, a mesma é colocada em alta rotação, de modo que a solução forme uma película homogênea sobre sua superfície. O processo de deposição ora descrito é conhecido como

A
deposição física a partir de vapor à pressão atmosférica.

B
deposição química de vapor melhorada por plasma.

C
spin-on.

D
deposição física a altas temperaturas.

E
deposição física por Sputtering.