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A principal técnica utilizada na deposição de polissilício é

A principal técnica utilizada na deposição de polissilício é

A
spin-on.

B
deposição física a partir de vapor por Sputtering.

C
deposição química a partir de vapor melhorada por plasma.

D
deposição química a partir de vapor em baixa pressão.

E
deposição química a partir de vapor à pressão atmosférica.