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Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição...
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Q700523
Teclas de Atalhos
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Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas
A
perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.
B
paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.
C
paralelas, tubo horizontal e substrato único.
D
paralelas, tubo vertical e substrato único.
E
paralelas, tubo vertical e substrato duplo.