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A falta da adesão do fotorresiste em muitas películas da...
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Q702563
Teclas de Atalhos
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A falta da adesão do fotorresiste em muitas películas da superfície do filme é um problema geralmente encontrado no
processamento do silício. A fim de promover a adesão, a superfície da lâmina é tratada com um promotor de adesão
como o hexametildisilazano (HMDS, (H3C)3-Si-NH-Si-(CH3)3) antes da aplicação do fotorresiste. Esse tratamento
fornece uma boa adesão do fotorresiste para uma variedade de filmes, incluindo o dióxido de silício contendo o
fósforo, silício policristalino, nitreto de silício (Si3N4) e o alumínio. O HMDS pode ser aplicado diretamente sobre o
substrato ou aplicado em pressão reduzida, em um forno a vácuo, com o objetivo principal de
A
formar uma camada bimolecular na superfície da lâmina, tornando-a hidrofóbica, o que permite a condensação de
umidade.
B
formar uma camada bimolecular na superfície da lâmina, tornando-a hidrofóbica, o que impede a condensação de
umidade.
C
formar uma camada monomolecular na superfície da lâmina, tornando-a hidrofílica, o que permite a condensação
de umidade.
D
formar uma camada monomolecular na superfície da lâmina, tornando-a hidrofóbica, o que impede a condensação
de umidade.
E
funcionar como equalizador para lâminas com mesmos tempos de estocagem.