Acerca da técnica de deposição química por vapor, assinale...

É inviável a utilização dessa técnica com filmes de óxido de silício.

A deposição química por vapor é um método de crescimento escalonável para a síntese de filmes finos.

Uma baixa razão de velocidade, em moléculas por segundo, implica uma espessura pouco controlada.

A velocidade de reação da superfície depende da pressão.

A referida técnica é ineficiente para a produção de dispositivos para aplicações em optoeletrônica.